第三百九十四章 与世界为敌 (第2/2页)
　　
　　总共要完成十几次的反射才能达到最后的曝光要求！
　　
　　“这对于反射镜片的精度需求可以说是极高的，要感谢卡尔蔡司公司在这方面的付出。”
　　
　　说完就对旁边卡尔蔡司的工程师做出了一个请的手势。
　　
　　卡尔蔡司公司的工程师也顺势站了出来礼貌的说道
　　
　　“我们同样利用到了安布雷拉的技术涂层，不过当然，就精度方面，我们还是有点自信的……”
　　
　　随后，阿斯麦的代表又介绍了他们的EUV光源。
　　
　　“之前说了，极紫外线需要通过十几次反射才能达到我们的效果，而因为极紫外线的电离消耗，每次反射都会损失大概30%左右的能量，最终我们能够有效利用的光只有大概2%，因此，我们需要光源有着足够且稳定的输出功率，为了克服这个问题Cymer公司可是花费了整整十年的时间来攻克，不过Cymer公司在三年前已经被我们公司完成了收购……”
　　
　　一边说着，他一边继续外放了全息画面，里面连原理都出来了，就是用高能激光不断轰击液态金属滴，难度和精确度看着他提供的数据就让人头皮发麻。
　　
　　只是制造出来不难，可要保持稳定和持久，还有足够输出功率的光源，那就要确保每次的撞击都极为精准，且频率要足够高。
　　
　　不断轰击滴落的金属液滴，各方面稍微有一点失误都是完全不同的。
　　
　　再后面随着不断的介绍，观众也明白了这台机器是怎么样组合起来的怪物。
　　
　　大漂亮的光源技术，霓虹的光源转换设备，高卢的阀件，普鲁士的镜头，瑞典的轴承，都需要极为精密，缺一不可，连安装都要极为精细要避开周边环境的轻微震动。
　　
　　甚至连运输光刻机的车辆，都是某积电的专利技术！
　　
　　直播到这里，很多观众眼里也就看明白了问题所在。
　　
　　EUV光刻机绝不是一个两个技术的问题，而是汇聚了全球所有最顶级的科技。
　　
　　而这些顶级巨头汇聚在一起，就是为了压下安布雷拉公司。
　　
　　还是直接靠着技术代差，一口气完成碾压的方式！
　　
　　这本身，也是一种秀肌肉的表现！
　　
　　如今，主流的芯片工艺才到14nm。
　　
　　然而EUV光刻机的理论极限却是能达到硅基芯片的极限，可以达到1nm！
　　
　　如果能解决隧穿问题，甚至还能更低！
　　
　　是，这不符合商业规律和利润。
　　
　　没有慢慢的更新迭代来进行收割。
　　
　　但没办法，安布雷拉这边杀出来太强了，他们的DUV光刻机性能太好，而且芯片简直就是处于黑盒状态完全摸不清。
　　
　　这种情况只能一口气拿出最好的将他们直接打倒。
　　
　　虽然芯片方面一下透支到了极限，但却可以在量子计算+超算以及人工智能方面补回来！
　　
　　安布雷拉人工智能再强，也是需要依托于硬件的！
　　
　　现在，阿斯麦就是在这里打明牌。
　　
　　我们，拥有着全球各种最强的技术。
　　
　　“这，就是我们的EUV光刻机，虽然现在才在各大晶圆厂完成安装调试，之后如何将工艺提升到极限还要看各大晶圆厂的手段，但我们的工具好歹已经制作完成，已经有了不断试错吸取经验的条件，可以不断向前，不断前进……
　　
　　“安布雷拉公司很强，非常强，强到让人叹为观止，我现在所展示的全息技术，我们镜片上强化的涂层，还有人工智能的结构等等，都奠定了安布雷拉的强大基础。
　　
　　“但，我们更强……”
　　
　　随后镜头拉远，也将阿斯麦和诸多参与了EUV零部件设计的公司，将EDA三大厂，将芯片设计厂，将晶原厂所有代表，全都同框。
　　
　　展现了他们巨大的底气与实力。
　　
　　之所以做出这个直播，就是为了向所有人宣告。
　　
　　他们，掌握着全球最顶级的技术。
　　
　　这种技术的沉淀，不是你短时间可以追赶上的！
　　
　　你或许能短期突破某个瓶颈，可你无法突破全部瓶颈！
　　
　　在伱追赶的时候，我们也会继续前行，永远走在前面，建好诸多壁垒堵住你的去路，让我们始终保持着差距！
　　
　　让我们始终占据着最大的利润！
　　
　　你们，在与世界为敌……
　　
　　————
　　
　　三更~第一更~
　　
　　(本章完)