第447章 大门突然被敲响 (第2/2页)
　　
　　在EUV光刻机中，EUV光源无疑是最核心的设备。
　　
　　想要让光刻机高效的工作，需要有足够亮的EUV光源才行。
　　
　　在EUV光源方面，黄思白提供了一些技术，但并没有彻底的解决问题。
　　
　　“等一下……极紫外辐射的光谱，似乎还有继续优化的空间！”
　　
　　这时，徐佑突然注意到。
　　
　　在正常的激光最佳聚焦位置下，入射激光能量和等离子体之间缺乏有效的耦合。
　　
　　而其中的原因，是因为在最佳聚焦位置处，聚焦光斑尺寸较小，激光聚焦锥角也较小，等离子体吸收的能量会局限在中轴附近，影响等离子体对激光能量的吸收。
　　
　　换句话说，所谓的“激光最佳聚焦位置”，很可能并不是EUV光谱强度最强的位置。
　　
　　“如果调整一下聚焦光斑的尺寸……情况就会有所不同了。”
　　
　　按照徐佑的理论，当聚焦光斑尺寸略微增大时，激光聚焦锥角也会跟着增大。
　　
　　这样一来，激光能量会有效地分布在整个等离子体的前沿，等离子体可以有效地吸收激光能量，减少能量的损失。
　　
　　当然，聚焦光斑尺寸不可以增大过多，否则的话，就会起到适得其反的效果了。
　　
　　只是，虽然徐佑有了这些推论，但仅仅依靠自己的算力，是很难在有限的时间内，找到最佳的聚焦光斑尺寸的。
　　
　　好在，徐佑可以依靠算经强大的算力，来大大提高自己的计算速度。
　　
　　经过多次的计算，徐佑总算找到了EUV光谱强度最强的位置。
　　
　　更换了新的EUV光源装置后，徐佑重新进行光刻机工作流程的推演。
　　
　　正如徐佑所料想的一样，当光源的亮度大大增加后，光刻机的工作效率，也跟着提高了不少。
　　
　　“如果能够按照这样的效率去工作，那这台EUV光刻机，是真的有可能投入到使用中的！”
　　
　　确定了光刻机的设计方案，徐佑仍需要总结出各个部件的具体工艺。
　　
　　因为，想要制造出像光刻机这样，如此精密的仪器。
　　
　　仅仅依靠设计图，是远远不够的。
　　
　　如果没有具体的工艺，即使拿到了设计图，也并不代表就能把光刻机整个制造出来。
　　
　　徐佑顾不上休息，继续和算经一起，进行着接下来的工作。
　　
　　……
　　
　　在徐佑的实验室中，林诗正在焦急的向崔颖询问着什么。
　　
　　“崔老师，徐老师今天怎么又没来实验室？需不需要我们去看一看他啊？”
　　
　　“不必了，徐老师最近可能有些劳累，需要休整一段时间，暂时就不先不出现在实验室了。林诗，就算徐老师不在，你也要做好带头作用，继续几个项目的研究工作。”
　　
　　“好的，崔老师，我知道了。”
　　
　　林诗心里隐约还是有些担心徐佑，不过既然崔颖这么说，林诗也不好再问什么。
　　
　　徐佑不在的时候，林诗更应该挑起大梁，继续徐佑未完成的科研项目。
　　
　　正在这时，实验室的大门突然被敲响。
　　
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